ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To

Field does not validate

To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

  • RootNode

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 400 金属材料研究所
  2. 東北大学研究所報告. A集, 物理学・化学・冶金学

Atomic Structural Analysis of a Monolayer Epitaxial Film of Hexagonal Boron Nitride/Ni(111) studied by LEED Intensity Analysis(Interfaces by various techniques)

https://doi.org/10.50974/00043821
https://doi.org/10.50974/00043821
5d617604-9dcb-4a65-a433-4de3eda91eb8
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00004200858.pdf KJ00004200858.pdf (394.6 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2008-05-02
タイトル
タイトル Atomic Structural Analysis of a Monolayer Epitaxial Film of Hexagonal Boron Nitride/Ni(111) studied by LEED Intensity Analysis(Interfaces by various techniques)
言語
言語 eng
キーワード
主題Scheme Other
主題 h-BN
キーワード
主題Scheme Other
主題 LEED analysis
キーワード
主題Scheme Other
主題 epitaxial film
キーワード
主題Scheme Other
主題 rumpling structure
キーワード
主題Scheme Other
主題 monolayer
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.50974/00043821
ID登録タイプ JaLC
著者 Gamou, Yasuo

× Gamou, Yasuo

Gamou, Yasuo

Search repository
Terai, Masayuki

× Terai, Masayuki

Terai, Masayuki

Search repository
Nagashima, Ayato

× Nagashima, Ayato

Nagashima, Ayato

Search repository
Oshima, Chuhei

× Oshima, Chuhei

Oshima, Chuhei

Search repository
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The atomic structure of a monolayer epitaxial film of hexagonal boron nitride (h-BN) formed on a Ni(111) surface was investigated by means of LEED intensity analysis. We measured the I-V curves of the (1, 0), (0, 1) and (1, 1) diffraction spots from a 1×1 atomic structure, and analyzed them by using Van Hove's analytical program based on dynamical theory. Six different atomic structural models meeting the experimental requirement of the 3-m symmetry were evaluated with Pendry's reliability factor. The final best-fit structure characterized by the minimum Pendry's reliability factor of 0.27 is as follows; the nitrogen atom in a unit cell of the h-BN overlayer is located at the on-top site of the topmost Ni atoms, while the boron atom exists at the fcc-hollow site. The spacings between the nitrogen (boron) atom and the topmost Ni layer is 2.04Å(2.2Å), which is much narrower than the interlayer spacing in bulk h-BN (3.33Å).
書誌情報 Science reports of the Research Institutes, Tohoku University. Ser. A, Physics, chemistry and metallurgy

巻 44, 号 2, p. 211-214, 発行日 1997-03-31
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 00408808
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00836167
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 Tohoku University
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 紀要類(bulletin)
登録日
日付 2008-05-02
日付タイプ Created
公開日(投稿完了日)
日付 2008-05-02
日付タイプ Created
発行日
日付 1997-03-31
日付タイプ Created
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 394586 bytes
更新日
日付 2010-01-27
日付タイプ Created
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-07-27 14:16:44.474458
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3