WEKO3
アイテム
新規フォトマスク製造用レジスト開発に関する研究
http://hdl.handle.net/10097/37246
http://hdl.handle.net/10097/3724660881b03-a39c-4dd2-913c-4f179b9f0dcd
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
T1H183578.pdf (540.5 kB)
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| Item type | その他 / Others(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2009-02-26 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 新規フォトマスク製造用レジスト開発に関する研究 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_1843 | |||||
| 資源タイプ | other | |||||
| 著者 |
三谷, 清樹
× 三谷, 清樹 |
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| 著者(ヨミ) | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 284079 | |||||
| 姓名 | ミタニ, セイキ | |||||
| 書誌情報 | 号 50 | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 博士学位論文の要旨及び審査結果の要旨 (Summary of Thesis(DR)) | |||||
| 登録日 | ||||||
| 日付 | 2009-02-26 | |||||
| 日付タイプ | Created | |||||
| 公開日（投稿完了日） | ||||||
| 日付 | 2009-02-26 | |||||
| 日付タイプ | Created | |||||
| 発行日 | ||||||
| 日付 | 2006-03-24 | |||||
| 日付タイプ | Created | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 540477 bytes | |||||
| 公開範囲 | ||||||
| 値 | 学外 | |||||
| 著者所属 | ||||||
| 値 | T | |||||
| 更新日 | ||||||
| 日付 | 2009-02-26 | |||||
| 日付タイプ | Created | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 値 | 3578 | |||||
| 学位の種別 | ||||||
| 値 | 課程 | |||||
