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アイテム / Theoretical analysis of the diffusive ion in biased plasma enhanced diamond chemical vapor deposition / JApplPhys_90_2559
JApplPhys_90_2559
ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2008-10-17 | |||||
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ファイル名 | JApplPhys_90_2559.pdf | |||||
本文URL | https://tohoku.repo.nii.ac.jp/record/4809/files/JApplPhys_90_2559.pdf | |||||
ラベル | JApplPhys_90_2559.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 158.3 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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