WEKO3
アイテム / Origin of positive charge generated in thin SiO2 films during high-field electrical stress / 10
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ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2010-04-21 | |||||
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ファイル名 | 10.1109-16.760402.pdf | |||||
本文URL | https://tohoku.repo.nii.ac.jp/record/53586/files/10.1109-16.760402.pdf | |||||
ラベル | 10.1109-16.760402.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 197.5 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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