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One fine body…

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One fine body…

アイテム / Degradation of interface integrity between a high-k dielectric thin film and a gate electrode due to excess oxygen in the film / 10

10

10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf
6e8341e3-a38d-4d6c-8046-5aea544f9419
https://tohoku.repo.nii.ac.jp/record/26076/files/10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf
ファイル ライセンス
10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf/10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf (1.1 MB) sha256 14d062503dfdba3dc8296274ba6b2ae4a4d10b0e0691d5a1151936d500a0a509
公開日 2017-02-10
ファイル名 10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf
本文URL https://tohoku.repo.nii.ac.jp/record/26076/files/10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf
ラベル 10.1109-IRPS.2009.5173282.pdf
フォーマット application/pdf
サイズ 1.1 MB
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